在LED、OLED、LCD、BIO等多个领域，NANO PATTERN的必要性正在增加。但除半导体产业外，引进Photo Lithography设备（KrF、ArF）制造Nano Pattern，在装置价格、品质、生产性方面都不合适。Gigalain数年间开发了Imprinter技术并进一步尖端化，提供从Master Mold到生产Mold的制作及工程wafer上imprint进行全自动执行的产品服务。另外，在自身清洁室进行品质管理下，委托生产Mold的制作及wafer imprint工程，不仅提供高品质产品，还提供高生产性产品。
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SAW Filter Etcher执行金属蚀刻，这是SAW filter和oxide etch制造中最重要的工艺。 它在蚀刻时保持稳定和低工艺温度， 以获得高质量的锯切滤器并将目标表面的损坏最小化。
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TSV技术是将半导体进行 MULTI STACK或将多种半导体进行CHIP化(SIC)的必需工艺，最近添加了MEMS(敏感)元件，成为AI(人工智能）、自动驾驶等第四产业的核心技术。
DRIE Etcher用于MEMS、TSV、Si thinning等多种Si etching工程，具有快速的蚀刻速度、优秀的蚀刻选择性和均匀性。
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CCP ETCHER
CCP（Capacitively Coupled Plasma）作为最适合Dielectrics刻蚀的Plasma Source，Gigalain CCP刻蚀设备采用了多种最新技术，是确保高刻蚀选择性和均匀性的高性能CCP刻蚀设备。
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提供制造照明、BLU等多个领域使用的LED元件所需的优秀蚀刻设备，特别是主导LED用PSS蚀刻设备市场。
另外，为应对市场和技术的变化，在制造Mini LED、Micro LED、Nano LED所需的蚀刻设备市场发挥着先导作用。
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